一种半导体设备的器件清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体设备的器件清洗装置,包括清洗池、承载板和分流喷管,所述清洗池呈矩形箱体结构,且所述清洗池底端面四角均焊接有支撑脚,所述清洗池两侧内壁对称焊接有支撑块,且两组所述支撑块顶端面通过螺栓螺纹固定安装有用于放置半导体设备器件的承载板,所述承载板底端面中间设置有金属弹性过滤网,且金属弹性过滤网贯穿至承载板底端面,所述清洗池两侧对称内壁之间设置有用于清洗半导体设备器件的分流喷管,且所述分流喷管朝向承载板的一侧面对称设置有N组喷头,所述分流喷管背向喷头的一侧面中间位置贯穿有连接管。该半导体设备的器件清洗装置,能够便于器件的翻转清洗,提高清洗效率。
基本信息
专利标题 :
一种半导体设备的器件清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921462802.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-04
授权号 :
CN210546647U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
徐宏进
申请人 :
扬州国润半导体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省扬州市高新技术产业开发区华钢路8号1
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
李洪波
优先权 :
CN201921462802.9
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B1/00 B08B13/00 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210546647U.PDF
PDF下载