半导体设备的面板清洗装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种半导体设备的面板清洗装置，包括面板、供水模块、控制气路；在面板内部的顶棚四周设置有分布若干喷嘴的水管，所述水管一端与所述供水模块连通，水管上设有气动水阀，气动水阀通过气路与所述控制气路连接。喷嘴的最大喷洒角度为80～120°；水管的内径为10±0.5mm；供水模块出口的纯水压力为200±50kPa。本实用新型用于对半导体行业用化学机械研磨装置的面板进行在线清洗，可减少设备的维护时间和频度，提高设备的利用率；并且结构简单，成本低廉。
基本信息
专利标题 ：
半导体设备的面板清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720144167.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-08-31
授权号 ：
CN201094956Y
授权日 ：
2008-08-06
发明人 ：
斯健全瞿治军
申请人 ：
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 ：
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈平
优先权 ：
CN200720144167.0
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2016-10-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101683512241
IPC(主分类) : B08B 3/02
专利号 : ZL2007201441670
申请日 : 20070831
授权公告日 : 20080806
终止日期 : 20150831
号牌文件序号 : 101683512241
IPC(主分类) : B08B 3/02
专利号 : ZL2007201441670
申请日 : 20070831
授权公告日 : 20080806
终止日期 : 20150831
2014-01-22 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101687520511
IPC(主分类) : B08B 3/02
专利号 : ZL2007201441670
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后权利人 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
登记生效日 : 20131230
号牌文件序号 : 101687520511
IPC(主分类) : B08B 3/02
专利号 : ZL2007201441670
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后权利人 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
登记生效日 : 20131230
2008-08-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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