本实用新型公开了一种半导体基板清洗设备，包括工作台，工作台的上表面开设有导轨槽，导轨槽的内部安装有移动装置，移动装置的上侧安装有旋转托盘，工作台的上表面前侧安装有气体喷出装置，工作台的上表面后侧安装有液体喷出装置，移动装置包括第一电机组件，第一电机组件的输出轴右端固定安装有丝杠，丝杠位于导轨槽的内部，丝杠的右端通过轴承组转动安装在导轨槽的内部右端，丝杠的外表面螺接有滑块，滑块滑动安装在导轨槽的内部；与现有技术相比，本装置通过气体、液体喷出装置和移动装置等结构的配合，能够牢牢固定基板，并在基板表面进行彻底的液体喷淋和氮气吹干操作，提升清洁效率和产品良率。