一种具有清洗功能的纳米压印匀胶装置
授权
摘要
本实用新型提出一种具有清洗功能的纳米压印匀胶装置。包括底座、壳体、盖板、真空吸盘和清洗装置；壳体固定安装在底座上，壳体上安装盖板，底座顶面有排污孔，排污孔与废液出口连接，相邻边角的排污孔之间通过导流槽连通；增压泵置于底座内部，喷洗头模组固定安装在底座顶面，储液容器置于底座外部，储液容器通过软管与增压泵的输入端连接；传动轴置于喷洗头模组中，传动轴安装固接真空吸附盘，真空吸附盘与电机的输出轴连接。本实用新型解决了匀胶的胶体沉积在壳体内的问题，避免了沉积的胶体本身带有或者是产生刺激性的气体对人体的伤害，同时也避免了沉积的胶体挥发对正在旋涂的基片表面胶层的影响。
基本信息
专利标题 ：
一种具有清洗功能的纳米压印匀胶装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022134946.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213365261U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
张琬皎龙眈
申请人 ：
杭州欧光芯科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市大江东产业集聚区义蓬街道青六中路888号义蓬科创园1101室
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
林超
优先权 ：
CN202022134946.0
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 B05B15/555
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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