一种靶材环件安装结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种靶材环件安装结构，所述安装结构包括环件本体、环件本体配件、内配合组件、外配合组件、固定件和溅射设备配件，所述溅射设备配件环绕设置于环件本体的外侧，其上设有通孔；内配合组件一端与环件本体配件接触，另一端呈凹陷结构，外配合组件的一端呈凸出结构，所述凸出结构穿过溅射设备配件的通孔与内配合组件中凹陷结构组合；所述内、外配合组件为贯穿空心结构，固定件贯穿内、外配合组件将两者固定。本实用新型通过靶材环件安装结构中内、外配合组件结构的改变，使之能够适用于多种类靶材环件的安装使用，避免因环件尺寸变化而难以安装的问题；所述安装结构改进方式简单，无需进行大的结构变化，成本较低，适用性广。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材环件安装结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022163348.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-27
授权号 ：
CN213895982U
授权日 ：
2021-08-06
发明人 ：
姚力军边逸军潘杰王学泽冯周瑜
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202022163348.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-08-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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