靶材安装结构及离子源溅射系统
授权
摘要
本申请涉及一种靶材安装结构，包括：主轴、靶材底座以及固定支撑轴，所述靶材底座上设有多个靶材安装座，各个靶材安装座连接螺杆；主轴与靶材底座连接，带动靶材底座旋转；固定支撑轴通过单向逆止结构分别与靶材底座和螺杆的一端连接，螺杆的另一端通过涡轮与靶材安装座连接；主轴往正向旋转时，靶材底座跟随转动，单向逆止结构使得所述螺杆相对于靶材底座静止，螺杆相对于所述固定支撑轴位移，靶材安装座保持静止；主轴往反向旋转时，靶材底座跟随转动，单向逆止结构使得螺杆相对于固定支撑轴位移，螺杆相对于靶材底座位移，螺杆通过涡轮转动靶材安装座。本申请只需通过一个电机即可实现靶材的选择和旋转，且传动机构简单。
基本信息
专利标题 ：
靶材安装结构及离子源溅射系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922501847.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211713191U
授权日 ：
2020-10-20
发明人 ：
刘伟基冀鸣赵刚易洪波吴秋生刘运鸿
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN201922501847.9
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-10-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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