一种半导体设备研磨头装载体清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体设备研磨头装载体清洗装置，具体涉及半导体设备清洗技术领域，包括固定架，所述固定架的底部设置有废液箱，且固定架的外侧安装有水箱，所述固定架的顶端连接有固定壳，所述固定壳的前端安装有门板，所述门板的内部设置有观察窗，所述固定壳的内部安装有清洗机构；所述清洗机构包括安装在固定壳顶部的伺服电机，所述伺服电机的底端连接有转动轴，所述转动轴的底端固定连接有转动座。本实用新型在使用时，实现可持续的对多个研磨头装载体进行分批清洗，提高了清洗效率，节省了人力，且方便对清洗箱的内部实现智能换水，便于对后续清洗的研磨头装载体提供净水清洗，避免超声波清洗箱的内部水脏污影响清洗质量。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体设备研磨头装载体清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022185339.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN213316568U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
薛弘宇陈开清刘兴明程阳周建国
申请人 ：
江苏凯威特斯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号
代理机构 ：
无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴忠义
优先权 ：
CN202022185339.7
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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