一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备，包括蒸镀箱，蒸镀箱的中部固定设有隔热板，蒸镀箱内部的底端固定设有蒸发源，蒸镀箱内部的底端一侧固定设有两个第一支撑架，两个第一支撑架之间转动连接有薄膜卷，蒸镀箱的顶端内壁固定设有清洁组件，本实用新型的有益效果是：通过设置的第一支撑架用于对薄膜卷进行放置，通过设置的驱动电机便于带动薄膜收卷筒对蒸镀后的薄膜进行收卷，从而有效的提高蒸镀效率，并且薄膜收卷筒与驱动电机的传动轴卡合连接，便于对薄膜收卷筒进行安装和更换；通过设置的隔热板能够起到隔热效率，能够使热量主要集中在蒸镀箱内部的底部，有效的提高薄膜的蒸镀效果，并且减少热量的流失。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022271421.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-13
授权号 ：
CN213977858U
授权日 ：
2021-08-17
发明人 ：
黄田新
申请人 ：
黄田新
申请人地址 ：
广东省广州市天河区长兴路363号广东省新材料研究所
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022271421.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-08-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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