一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备,包括底板,所述底板的顶端安装有蒸镀箱,且所述蒸镀箱一侧的外壁上安装有真空泵,所述蒸镀箱一侧的外壁上安装有气泵,且所述气泵的输出端安装有主气管,所述底板顶端的一侧安装有控制箱,所述蒸镀箱的底部安装有蒸发源,所述蒸镀箱的内壁上滑动安装有挡板,所述蒸镀箱的顶部安装有加热器,所述蒸镀箱一侧的内壁上安装有基板,所述蒸镀箱的两内侧壁上皆安装有膜厚计,所述蒸镀箱一侧的内壁上固定有固定板。本实用新型不仅避免源材料蒸镀厚度不均的现象,提高金属薄膜的蒸镀良品率,还提升金属薄膜的蒸镀效率,减少金属薄膜在蒸镀过程中出现褶皱的现象。

基本信息
专利标题 :
一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122480330.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-14
授权号 :
CN216192662U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
汪祥久杨启忠周兵陈占龙
申请人 :
昆山泓电隆泰电子材料有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市淀山湖镇双马路36号
代理机构 :
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
安琳
优先权 :
CN202122480330.3
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/14  C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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