一种静电夹盘及其等离子体处理装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种静电夹盘，包括静电吸附层和位于静电吸附层下方的基座，静电吸附层为陶瓷材料，基座包括靠近静电吸附层的第一金属层和位于第一金属层下方的第二金属层，第一金属层的热膨胀系数大于静电吸附层的热膨胀系数，小于等于第二金属层的热膨胀系数，第一金属层的热膨胀系数小于15×10^‑6/K。此实用新型解决了传统静电夹盘中易产生机械应力导致损坏的问题，选择ESC基座与静电吸附层具有相似热膨胀系数的特殊材料，减小了静电夹盘内部机械应力的产生，有效地避免了静电夹盘中热力不匹配的现象。

基本信息

专利标题：

一种静电夹盘及其等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022343117.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-20

授权号：

CN213546260U

授权日：

2021-06-25

发明人：

黄国民赵函一吴狄倪图强

申请人：

中微半导体设备（上海）股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司

代理人：

张妍

优先权：

CN202022343117.3

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32 H01L21/67 H01L21/683