本实用新型提供一种等离子体处理装置及单极静电卡盘。所述单极静电卡盘包括上部基体和下部基体；上部基体包括铝基体和陶瓷层，陶瓷层层叠在铝基体上表面；所述上部基体与所述下部基体层叠，固定连接为一体。等离子体处理装置，包括腔室，和在腔室内设置的单极静电卡盘。本实用新型将单极静电卡盘分成上下两个部分，可在维修的时候，仅将上部基体进行维修。相比整个单极静电卡盘，上部基体只包括气道，不包括冷凝剂通道，因此维修过程要封堵的孔道减少，降低了维修难度和工作量，同时避免在打磨、重新等离子喷涂等工序对下部基体的影响。