静电卡盘及采用所述静电卡盘的半导体设备
授权
摘要
本实用新型提供一种静电卡盘及采用所述静电卡盘的半导体设备，所述静电卡盘包括：卡盘本体，具有至少两个控温区，每一所述控温区能够独立控制温度；至少两个主出气孔组，设置在不同的所述控温区。本实用新型的优点在于，至少两个主出气孔组设置在不同的所述控温区，从而缩短控温区补充气体的路程，使得气体能够及时补充，晶圆与静电卡盘之间的压力更稳定，且能够减小不同控温区之间气体的流动，进而减小不同控温区之间温度影响，提高温度控制的精确度。
基本信息
专利标题 ：
静电卡盘及采用所述静电卡盘的半导体设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022301748.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
CN214099612U
授权日 ：
2021-08-31
发明人 ：
钟杜单静静豆海清曾最新
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN202022301748.9
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2021-08-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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