用于高温半导体加工中夹持的静电卡盘及其制造方法
授权
摘要
具有适于在500℃至750℃的温度范围内的Johnsen‑Rahbek夹持的顶表面的静电卡盘。可以使用能承受腐蚀性加工化学的钎焊层将该顶表面连接到静电卡盘的下部。提供了具有适于在500℃至750℃的温度范围内的Johnsen‑Rahbek夹持的顶表面的静电卡盘的制造方法。
基本信息
专利标题 :
用于高温半导体加工中夹持的静电卡盘及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108476006A
申请号 :
CN201680074692.1
公开(公告)日 :
2018-08-31
申请日 :
2016-11-02
授权号 :
CN108476006B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
B·D·A·埃利奥特F·巴拉玛M·帕克J·斯蒂芬斯G·胡森
申请人 :
部件再设计股份有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
李跃龙
优先权 :
CN201680074692.1
主分类号 :
H02N13/00
IPC分类号 :
H02N13/00 H01L21/683 H01L21/687 B23Q3/15 C04B37/00 B23K1/00
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法律状态
2022-04-15 :
授权
2021-06-11 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H02N 13/00
登记生效日 : 20210531
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 部件再设计股份有限公司
变更后权利人 : 沃特洛电气制造公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国加利福尼亚
变更后权利人 : 美国密苏里州
登记生效日 : 20210531
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 部件再设计股份有限公司
变更后权利人 : 沃特洛电气制造公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国加利福尼亚
变更后权利人 : 美国密苏里州
2018-11-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H02N 13/00
申请日 : 20161102
申请日 : 20161102
2018-08-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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