一种航天器薄膜加工曝光机
授权
摘要

本实用新型属于曝光机技术领域,具体涉及一种航天器薄膜加工曝光机,包括曝光机主体,U型固定板的内侧转动连接有控制面板,U型竖板的一侧对称固定安装有固定块,两个固定块的相对面共同转动连接有丝杆,U型竖板的两侧均开设有第二导向滑轨,丝杆的外侧螺接有贯穿第二导向滑轨的连接块,连接块的前表面固定安装有下U型铰接座,下U型铰接座的内侧转动连接有连接杆,连接杆的上端转动连接有与控制面板连接的上U型铰接座。本实用新型通过转动旋钮,带动丝杆转动,实现外侧的连接块带动通过下U型铰接座、连接杆和上U型铰接座连接的控制面板进行转动,从而方便根据使用者的需求进行俯仰角的调整,使用的舒适度较高。

基本信息
专利标题 :
一种航天器薄膜加工曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022427033.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-28
授权号 :
CN213517877U
授权日 :
2021-06-22
发明人 :
谭文雁
申请人 :
常州市飞天电子元件有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市天宁区青洋北路1号(青洋北路1号22幢A-2)
代理机构 :
常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
谈敏
优先权 :
CN202022427033.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-06-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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