一种用于半导体制造的CMP设备用流量计
授权
摘要
本实用新型提供一种用于半导体制造的CMP设备用流量计，涉及CMP设备用流量计防护技术领域，包括计体和防护装置，计体的表面卡有管体，计体的表面设有防护装置，防护装置包括固定板，固定板靠近管体的一端与计体固定连接，固定板的表面转动连接有两个连接板，两个连接板远离固定板的一端均固定连接有半圆板，插块的大小与限位槽的大小相适配。本实用新型，由于外部环境的变化可能会对流量计造成损坏，而流量计的表面暴露在外部环境没有任何防护，导致流量计的性能可能会受到影响，影响流量计的使用，从而降低工作效率，此装置解决了流量计的表面没有被防护，导致流量计容易损坏的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于半导体制造的CMP设备用流量计
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022511193.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-04
授权号 ：
CN213067782U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
刘欢
申请人 ：
天津昂嘉科技发展有限公司
申请人地址 ：
天津市武清区京津科技谷产业园祥园道160号122室-33
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022511193.0
主分类号 ：
G01F15/12
IPC分类号 ：
G01F15/12 G01F15/14 G01F15/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量；按容积进行测量
G01F15/00
用于组G01F1/00至G01F13/00范围的零部件或仪器的，但不专用于其中特定类型仪器的零件或附件
G01F15/12
清洁装置；过滤器
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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