一种用于半导体制造装置的流量计
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于半导体制造装置的流量计,包括主体,所述主体的前端外表面设置有箱门,所述箱门的下端设置有可替换标签,所述可替换标签的上端设置有警报装置,所述可替换标签与警报装置之间设置有控制面板,所述主体的上端外表面设置有顶板。本实用新型所述的一种用于半导体制造装置的流量计,设有防反光装置与防渗漏装置,在流量计使用时,可通过装置内部设置的遮光板,将流量计上方的太阳光遮挡住,防止太阳光对流量计造成反光,有利于使用者的观察,还可以在流量计安装时,将防渗漏装置通过安装槽快速安装在接口处,防止接口处出现渗漏,有利于流量计的使用,带来更好的使用前景。

基本信息
专利标题 :
一种用于半导体制造装置的流量计
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921722434.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-15
授权号 :
CN210893302U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
杉时夫
申请人 :
东京计装(漳州)仪表有限公司
申请人地址 :
福建省漳州市金峰开发区北斗福星工业厂房14号
代理机构 :
北京立成智业专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张江涵
优先权 :
CN201921722434.7
主分类号 :
G01F15/18
IPC分类号 :
G01F15/18  G01F15/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量;按容积进行测量
G01F15/00
用于组G01F1/00至G01F13/00范围的零部件或仪器的,但不专用于其中特定类型仪器的零件或附件
G01F15/18
仪表的支架或连接装置
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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