提高侧向出光强度的发光二极管芯片及其制造方法
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摘要

本公开提供了一种提高侧向出光强度的发光二极管芯片及其制造方法,属于半导体技术领域。芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层、N型电极、P型电极、绝缘层和保护层;N型半导体层、有源层和P型半导体层依次层叠在衬底的第一表面上;N型电极设置N型半导体层上,P型电极设置在P型半导体层上;绝缘层铺设在凹槽内和N型电极上,以及P型半导体层和P型电极上,保护层铺设在绝缘层上,绝缘层包括依次层叠的钝化层和分布式布拉格反射层,钝化层的与分布式布拉格反射层接触的一面上具有至少一个环形槽,至少一个环形槽内填充有多个氧化铝颗粒。该芯片可以增加芯片在侧面的出光效果,保证芯片在各种观察角度下视觉效果的稳定性。

基本信息
专利标题 :
提高侧向出光强度的发光二极管芯片及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113314650A
申请号 :
CN202110368959.0
公开(公告)日 :
2021-08-27
申请日 :
2021-04-06
授权号 :
CN113314650B
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
李鹏兰叶
申请人 :
华灿光电(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
代理机构 :
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
吕耀萍
优先权 :
CN202110368959.0
主分类号 :
H01L33/44
IPC分类号 :
H01L33/44  H01L33/46  H01L33/00  
法律状态
2022-05-13 :
授权
2021-09-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/44
申请日 : 20210406
2021-08-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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