旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法
授权
摘要
旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法，涉及物理气相沉积领域。本发明的目的是为了解决现有物理气相沉积方法难以在回火温度以下为GCr15轴承钢旋翼轴承内圈内壁表面沉积结合力强且均匀薄膜的问题。本申请以旋翼轴承内圈为真空室，在氩气环境下，采用两个与轴承内圈同轴的一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶，利用高功率脉冲磁控溅射方法，溅射出高离化率金属离子，分别将两种金属沉积在旋翼轴承内圈内壁，为旋翼轴承内圈内壁镀打底膜和镀面膜，通过移动一号柱形磁控溅射靶和二号柱形磁控溅射靶电极形成均匀的镀膜效果。它用于为旋翼轴承内圈镀金属薄膜。
基本信息
专利标题 ：
旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113445013A
申请号 ：
CN202110721580.3
公开（公告）日 ：
2021-09-28
申请日 ：
2021-06-28
授权号 ：
CN113445013B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
马欣新
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 ：
哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨晓辉
优先权 ：
CN202110721580.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54 C23C14/56 C23C14/02 C23C14/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-10-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20210628
申请日 : 20210628
2021-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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