TFT-LCD靶材用纳米级ITO粉末制备工艺
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种TFT‑LCD靶材用纳米级ITO粉末制备工艺,首先将氧化铟粉末和氧化锡粉末进行真空上料,之后依次进行粗磨‑精磨‑纳米级砂磨,最后进行浆料过筛、配胶、造粒得到纳米级ITO粉末,这样在粗磨的基础上再进行了精磨:对粉末浆料进行进一步的剪切,让其颗粒剪切到0.8um,进一步的通过纳米砂磨0.05mm锆珠的高分散能力和超高主机转剪切力的作用下,进一步的砂磨到100nm以下,制得高均匀性,高分散性,纳米级ITO粉末。

基本信息
专利标题 :
TFT-LCD靶材用纳米级ITO粉末制备工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114275808A
申请号 :
CN202110742911.1
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-07-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王志强曾墩风陶成
申请人 :
芜湖映日科技股份有限公司
申请人地址 :
安徽省芜湖市中国(安徽)自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房
代理机构 :
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 :
杨静
优先权 :
CN202110742911.1
主分类号 :
C01G19/02
IPC分类号 :
C01G19/02  C01G15/00  B82Y30/00  B02C21/00  B07B9/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G19/00
锡的化合物
C01G19/02
氧化物
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01G 19/02
申请日 : 20210701
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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