一种基板的铜互连钴阻挡层
授权
摘要
本发明公开了一种基板的铜互连钴阻挡层，其通过包括以下步骤的化学机械抛光方法抛光：a.配置化学机械抛光液，其中，所述化学机械抛光液含有1～10％的胶体二氧化硅、1‑20mM/L的过硫酸钾、1‑20mM/L的苯并三氮唑以及余量的水和pH调节剂，使得所述抛光液pH值为10‑11；b.以100‑300mL/min的流量向化学机械抛光垫散布抛光液并对承载头施加1‑2psi的压力，对基板的铜互连钴阻挡层结构进行60‑120s的化学机械抛光作业。
基本信息
专利标题 ：
一种基板的铜互连钴阻挡层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113278366A
申请号 ：
CN202110774652.0
公开（公告）日 ：
2021-08-20
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN113278366B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
张力飞王同庆路新春
申请人 ：
清华大学;华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202110774652.0
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 B24B37/04 H01L21/768 H01L23/522
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-09-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20200716
申请日 : 20200716
2021-08-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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