一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法
授权
摘要
本申请公开了一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法,包括:步骤一、构造热场:将坩埚置于保温罩中,再将坩埚连同保温罩置于长晶炉生长腔中,保温罩包括保温盖,保温盖的底部开设有与保温筒同轴的圆形凹槽,圆形凹槽的直径至少小于碳化硅籽晶直径1mm,且大于等于碳化硅籽晶直径的三分之二;步骤二、利用热场制备碳化硅晶体,以使得获得的碳化硅晶体的靠近边缘处形成与圆形凹槽的槽侧壁位置大致对应的环形形貌,所述环形形貌的宽度为100‑600微米。本申请提供的阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法,能够获得边缘位置具有一定宽度的环形形貌的碳化硅晶体,该环形形貌能够阻挡形貌外侧的边缘位错向其内侧滑移,提升碳化硅晶体中部区域的晶体质量。
基本信息
专利标题 :
一种阻挡碳化硅晶体边缘位错向内滑移的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113638047A
申请号 :
CN202110947961.3
公开(公告)日 :
2021-11-12
申请日 :
2021-08-18
授权号 :
CN113638047B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
张九阳李霞王永方赵树春张红岩高超王含冠王宁苏丽娜
申请人 :
山东天岳先进科技股份有限公司
申请人地址 :
山东省济南市槐荫区天岳南路99号
代理机构 :
北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘晓佳
优先权 :
CN202110947961.3
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36 C30B23/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-11-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20210818
申请日 : 20210818
2021-11-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载