成膜装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供成膜装置，能够抑制装置的大型化，并且能够增加向成膜源供给的冷却液的流量。成膜装置的特征在于，具备：腔室(10)；成膜源(100)，用于在配置于腔室(10)内的基板(P)上形成薄膜；大气箱(210)，支承成膜源(100)并进行往复移动；连结机构(240)，以连结腔室(10)和大气箱(210)的方式设置；第一冷却管(51)，配置于大气箱(210)的内部，用于向成膜源(100)供给冷却液；以及多个第二冷却管(52)，配置于连结机构(240)的内部，并且经由多支管(54)与第一冷却管(51)连接，且均比第一冷却管(51)细。
基本信息
专利标题 ：
成膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381698A
申请号 ：
CN202111111518.9
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松本行生
申请人 ：
佳能特机株式会社
申请人地址 ：
日本新泻县
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
刘杨
优先权 ：
CN202111111518.9
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/24 C23C14/35 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20210923
申请日 : 20210923
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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