一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法
公开
摘要
本发明公开了一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法，旨在解决陶瓷产品表面清洗效果不佳的不足。该发明包括陶瓷产品依次经过化学清洗和超声波清洗，清洗彻底。采用脱脂液浸泡产品，根据酯化反应原理可去除产品加工工程中蜡、切屑液等有机残余。采用混酸液浸泡产品，可将金属离子转变成易于溶解的络合物，能有效去除Ca、Na、K、Fe、Cu、Cr、Zn等金属。高强度的声波引起压力起伏，进而形成空心化水泡，水泡破裂会释放足够的能量，将颗粒从产品表面移除。采用这种方法清洗陶瓷产品能将氧化铝陶瓷产品表面的无机物、有机物及颗粒等玷污降到半导体原子层沉积设备用水平，清洗效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114618821A
申请号 ：
CN202111135264.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王圣平张婷姚相民叶国成蔡德奇
申请人 ：
杭州大和江东新材料科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区大江东产业集聚区江东三路6515号
代理机构 ：
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 ：
汪利胜
优先权 ：
CN202111135264.4
主分类号 ：
B08B3/08
IPC分类号 ：
B08B3/08 B08B3/12 B08B3/02 B08B3/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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