步进光刻的控制方法、装置、设备及存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明实施例公开了一种步进光刻的控制方法、装置、设备及存储介质。该步进光刻的控制方法包括：获取光刻设备一次步进后的实际移动距离；根据实际移动距离和预设步进步长确定一次步进的步进误差；基于步进误差对光斑图像进行调整，以补偿步进误差产生的曝光图像误差。本方案通过调整光斑图像投影的具体位置，从而在保证光斑图像位置的准确性的基础上，实现在待光刻件上曝光图像不会产生缝隙或重叠的部分，实现曝光图像的连续性，提高曝光图像的精确度。
基本信息
专利标题 ：
步进光刻的控制方法、装置、设备及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326320A
申请号 ：
CN202111244938.4
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈国军吴景舟马迪
申请人 ：
江苏迪盛智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金山南路868号锐晶大厦2号楼2层
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
陈金忠
优先权 ：
CN202111244938.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211026
申请日 : 20211026
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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