一种直拉单晶硅烧结炉
实质审查的生效
摘要

本发明涉及硅材料加工技术领域,且公开了一种直拉单晶硅烧结炉,包括主炉室,所述主炉室的顶端连接有副炉室,所述主炉室的内部顶端固定连接有导流框,所述导流框的中部等角度开设有气流孔。通过导流框的内侧设置有固定板,使氩气气流通过导流框的内侧流过时,被导流框内侧的固定板进行分流,一部分氩气流向直接到达坩埚的顶端,另一部分通过环形板的顶端进入主炉室和支撑板之间再通过支撑板和连接板之间,最后通过连接板和加热器之间,利用支撑板和加热器之间的温度梯度进行氩气气流的加热,直到气流流到承接盒的顶端侧,使坩埚顶端外侧的硅受到氩气气流作用始终处于熔化状态,且使坩埚顶端内侧壁不会有硅的结晶,提高坩埚的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种直拉单晶硅烧结炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114277430A
申请号 :
CN202111485179.0
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄淑珍
申请人 :
黄淑珍
申请人地址 :
广西壮族自治区防城港市港口区桃源街12号7栋2单元204室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202111485179.0
主分类号 :
C30B15/00
IPC分类号 :
C30B15/00  C30B15/10  C30B15/14  C30B29/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 15/00
申请日 : 20211207
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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