OLED喷印缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质
授权
摘要

本申请属于显示技术领域,公开了一种OLED喷印缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质,通过获取已完成像素点发光墨水喷印且未封装的OLED显示器件的像素点内至少一个探测位置点的太赫兹反射波时域数据;太赫兹反射波时域数据是用预设光强的太赫兹脉冲波周期性地照射所述像素点的所述探测位置点时,由所述像素点反射的反射波的光强数据;根据各所述太赫兹反射波时域数据获取各所述探测位置点的指纹谱数据;提取各所述探测位置点的指纹谱数据的最大峰值;对比各所述探测位置点的指纹谱数据的最大峰值与所述像素点的峰值阈值,以判断所述像素点是否为坏点;从而可在封装前准确地检测各像素点是否有坏点,以便于在发现坏点时可进行修复。

基本信息
专利标题 :
OLED喷印缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113960061A
申请号 :
CN202111580782.7
公开(公告)日 :
2022-01-21
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
CN113960061B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
刘竞博毛淇朱云龙吕赐兴
申请人 :
季华实验室
申请人地址 :
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
代理机构 :
佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈志超
优先权 :
CN202111580782.7
主分类号 :
G01N21/91
IPC分类号 :
G01N21/91  G01N21/95  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/91
利用染料的渗透性,例如荧光墨水
法律状态
2022-04-01 :
授权
2022-02-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/91
申请日 : 20211222
2022-01-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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