一种ITO导电膜玻璃板材溅射腔体结构
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种ITO导电膜玻璃板材溅射腔体结构,包括腔体,安装在腔体上部的驱动装置和磁性件,安装在所述腔体内的护板、基片以及靶材,安装在所述腔体侧壁的低温泵,所述驱动装置与磁性件固定连接,护板安装于所述基片以及靶材之间,所述腔体结构还包括驱动靶材左右移动的传动机构,所述传动机构包括齿条、与齿条啮合的齿轮,靶材与相对齿条的一侧固定连接。本发明通过安装传动机构,提高靶材的利用率,通过安装震动马达,进一步提高靶材利用率和ITO玻璃镀膜效率;通过在加热体上开设槽体,和在槽体上安装支撑装置,以及在加热体两侧安装固定装置,可以保证在完全固定基片的同时,还可以保护基片完整性,避免被固定设备刮花和破坏。

基本信息
专利标题 :
一种ITO导电膜玻璃板材溅射腔体结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481060A
申请号 :
CN202111590727.6
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄茜茜吕明泽朱汪根周道均汪旭东陈杰
申请人 :
凯盛信息显示材料(洛阳)有限公司
申请人地址 :
河南省洛阳市伊滨区兰台路39号
代理机构 :
昆明合众智信知识产权事务所
代理人 :
朱世新
优先权 :
CN202111590727.6
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/08  C23C14/50  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20211223
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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