HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法，属于太阳能电池生产技术领域。包括：将ITO旋转靶材安装在磁控溅射设备的靶位上；给磁控溅射设备抽真空，将磁控溅射设备的真空度抽至2E‑4Pa以下；将靶材的转速设置为5rap，并开启靶材旋转；以200sccm的流量向磁控溅射设备中通入Ar，以0.8‑3.5sccm的流量通入O2；开启磁控溅射设备的DC电源，调整功率为9.3kw，将打弧阈值减小为溅射工艺通用范围的50％；开启磁控溅射设备进行硅片镀膜。本发明在不影响硅片镀膜的前提下，将ITO旋转靶材的使用寿命周期大幅提升，有效提高了硅片镀膜效率和产能，节约了人力物力。
基本信息
专利标题 ：
HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114277348A
申请号 ：
CN202111613450.4
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨骥鲁林峰黄金李东栋杨立友王继磊贾慧君
申请人 ：
晋能清洁能源科技股份公司
申请人地址 ：
山西省吕梁市文水县经济开发区1号
代理机构 ：
山西晋扬知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张学元
优先权 ：
CN202111613450.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/08 H01L31/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20211227
申请日 : 20211227
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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