一种硅晶片全自动清洗甩干设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种硅晶片全自动清洗甩干设备,涉及硅晶片生产领域。包括清洗箱,所述清洗箱的内部开设有多组清洗仓,每组清洗仓的内部皆安装有喷水机构,所述清洗箱的上方连接有滑轨,所述滑轨的下方设置移动机构,所述移动机构的底端吊接有吊篮。本发明通过设置的吊篮、电机以及安装柱,在对吊篮内的硅晶片进行清洗完毕后,通过移动机构将吊篮移动到安装柱附近,使吊篮通过固定杆与安装柱卡合,启动电机,电机通过安装柱带动吊篮转动,吊篮内的水分在离心力的作用下通过排水斜口排出,且在吊篮转动时,吊篮通过两侧开设的第一进气口与第二进气口带动外界的空气进入到吊篮内开设的气槽中,气流通过拦截网排出对硅晶片外侧进行风干。
基本信息
专利标题 :
一种硅晶片全自动清洗甩干设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334732A
申请号 :
CN202111626581.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王鹏
申请人 :
王鹏
申请人地址 :
河南省郑州市荥阳市索河办成皋路50号1号楼04号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202111626581.6
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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