一种等离子气相沉积制备疏水膜的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种等离子气相沉积制备疏水膜的方法。所述方法包括以下步骤：基材的活化处理；将镀膜材料汽化；所述镀膜材料具有对称结构且含有硅元素；将汽化的镀膜材料通入反应腔，开启射频电源，设定射频功率和真空度，以在基材表面沉积镀膜材料形成疏水膜。该方法在不影响基材性质的情况下，通过等离子化学气相沉积在基材表面生成厚度达到纳米级别的环保疏水膜。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子气相沉积制备疏水膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114453213A
申请号 ：
CN202111629022.0
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梁宸吕伟桃毛静静李嘉惠莫德禧
申请人 ：
佛山市思博睿科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区桂城街道平西上海村东平路北侧瀚天科技城B区产业区3号楼一楼102号
代理机构 ：
上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹芳玲
优先权 ：
CN202111629022.0
主分类号 ：
B05D1/00
IPC分类号 ：
B05D1/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D1/00
涂布液体或其他流体的工艺
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B05D 1/00
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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