一种半导体元器件半自动循环清理装置
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种半导体元器件半自动循环清理装置,涉及半导体处理技术领域,解决了半导体晶圆清理与水分处理的问题,包括支撑座;所述支撑座的上方安装有两个链轮;所述传送链条安装在支撑座的两个链轮之间;所述支撑机构卡接在传送链条的上方;所述回收结构包括有装载箱,装载箱开设有一个安装孔,装载箱的底部开设有一个出水孔。传送链条带动支撑机构进行移动,通过支撑机构的移动同时带动对多个晶圆托盘自动清洗,从而使晶圆清洗更简单,晶圆清洗效率更高,通过烘干组件的设置起到了晶圆水分烘干的效果。

基本信息
专利标题 :
一种半导体元器件半自动循环清理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114284184A
申请号 :
CN202111645731.8
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
徐东丽
申请人 :
荣耀智能(山东)电子有限公司
申请人地址 :
山东省临沂市郯城县李庄镇青山村郯城高科技电子产业B2、B7栋
代理机构 :
山东诺诚智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
佘莉芳
优先权 :
CN202111645731.8
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L21/677  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211230
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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