一种可快速更换靶材的磁控溅射阴极及更换靶材的方法
实质审查的生效
摘要
本发明的一种可快速更换靶材的磁控溅射阴极及更换靶材方法,包括靶材安装座及靶材位于烟囱压紧装置和磁箍冷却组件之间,烟囱压紧装置安装在腔体安装法兰上,磁箍冷却组件穿过腔体安装法兰与伸缩驱动机构连接,伸缩驱动机构另一端安装在腔体安装法兰上。更换靶材时,伸缩驱动机构驱动下,磁箍冷却组件下移,利用磁控溅射设备自带的传样系统抓取靶材安装座边上的支耳,从阴极屏蔽罩侧边取出靶材安装座及其中的靶材后送至传样系统的腔室内;再利用传样系统将腔室内的新靶材安装座及靶材送到原磁箍冷却组件正上方,使烟囱压紧装置压住靶材安装座。该发明在不破坏主真空腔真空环境下,实现快速换靶,大幅降低更换靶材的时间,也减少了主真空腔的污染。
基本信息
专利标题 :
一种可快速更换靶材的磁控溅射阴极及更换靶材的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114318265A
申请号 :
CN202111646259.X
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李成汪建杜寅昌程厚义赵巍胜张悦
申请人 :
北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
申请人地址 :
安徽省合肥市新站高新区文忠路999号
代理机构 :
合肥天明专利事务所(普通合伙)
代理人 :
苗娟
优先权 :
CN202111646259.X
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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