本发明公开了一种去除石墨基材表面碳化硅镀膜的方法包括如下步骤：第一步：在喷射清洗设备内填充碳酸氢钠微晶体磨料；第二步：调整喷射清洗设备喷口的喷射角度，当涂层厚度为正常厚度时，喷口离需喷涂表面的角度为45度至60度；当涂层厚度较厚时，喷口离需喷涂表面的角度为70度至80度；第三步：喷射清洗设备内进行压缩空气，通过喷射清洗设备和碳酸氢钠微晶体磨料，精度：清除使用的磨料兼具脆性和柔性，不易损伤基材，能完美修复物件，可以避免手工打磨对基材造成的损伤，基材消耗不超过0.01mm，增加了物件的使用寿命；基材石墨表面无损伤可用显微照片展示；高效性：综合清洗成本低、效率高。降低了使用成本、时间成本、管理成本和人工成本。