一种半导体芯片生产用加热均匀的等离子刻蚀机
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体芯片生产用加热均匀的等离子刻蚀机，包括底座、输送机构、废气处理组件和控制箱，所述底座上侧固定有第一清洁组件和刻蚀加工箱，且第一清洁组件位于刻蚀加工箱一侧，同时第一清洁组件内部上侧固定有位置调节机构，所述位置调节机构上固定有第一支撑板，所述输送机构贯穿在第一清洁组件和刻蚀加工箱内。该半导体芯片生产用加热均匀的等离子刻蚀机，设置有第二清洁组件，在吹风喷头的辅助作用下可对半导体芯片表面进行吹风除尘处理，也可在清洁刷的辅助作用下进行清洁处理，清洁时产生的粉尘通过第二输气管进入粉尘处理器中，这样就可对粉尘进行处理，同样可保证半导体芯片加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体芯片生产用加热均匀的等离子刻蚀机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122162867.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-08
授权号 ：
CN216250630U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
傅仁宏李波王军
申请人 ：
江苏应材微机电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市医药高新技术产业开发区综合保税区标准厂房二期5号(B-2#)A栋1层
代理机构 ：
苏州创策知识产权代理有限公司
代理人 ：
苏利军
优先权 ：
CN202122162867.5
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67 B01D53/18 B01D53/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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