一种光罩盒
授权
摘要
本实用新型公开了一种光罩盒，包括底座和壳罩，光罩盒装载于承载台的位置精度为m毫米，底座传感器与壳罩传感器的直径分别为x和y毫米，底座传感器感知区的面积大于(m+x)2平方毫米，所述壳罩传感器感知区的面积大于(m+x)2平方毫米。本实用新型中，光罩盒的底座传感器感知区和壳罩传感器感知区的面积设定同时考虑了传感器自身的大小和光罩盒的位置精度两个因素，因此，将光罩盒搭载至承载台时，在其位置精度范围内，底座传感器感知区能够完全覆盖底座传感器，壳罩传感器感知区也能完全覆盖壳罩传感器，解决了设备误报而导致的设备宕机的问题，有效避免了因此而导致的产能损失和人力浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种光罩盒
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122563200.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-25
授权号 ：
CN216595889U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
顾佳灵
申请人 ：
上海华力微电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区高斯路568号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
戴广志
优先权 ：
CN202122563200.6
主分类号 ：
G03F1/66
IPC分类号 ：
G03F1/66 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/66
专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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