本实用新型公开了一种硅片扩散炉，包括炉体，所述炉体的内底部设置有转动机构，所述转动机构的外部对称套设有轴套，所述轴套的两侧固定连接有安装架，所述安装架的内部安装有硅片主体，所述安装架的外表面上对称设置有锁紧螺栓，所述炉体的侧壁上设置有加热装置。本实用新型中，利用电机带动转轴进行转动，转轴转动时可带动主动轮进行转动，主动轮通过皮带的设置可带动从动轮进行转动，从动轮转动时可带动转杆进行转动，转杆转动时可使得安装架上硅片发生转动，当通入的气体与硅片反应时，可保证硅片各处能够进行反应，使得对硅片扩散的更加均匀，效果更好。