一种半导体电镀设备的电镀槽
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体电镀设备的电镀槽,涉及半导体加工技术领域,包括电镀槽主体、固定架和控制器,所述电镀槽主体的顶部固定安装有固定架,所述固定架的顶部固定安装有控制器,所述电镀槽主体的一侧固定安装有固定杆,所述固定杆的底部固定安装有搅拌柱,所述电镀槽主体内腔的底部固定安装有刮板。本实用新型通过电镀槽主体内部进行放置原料,然后配合动力电机提供动力,带动连接杆和传动齿轮进行旋转,利于啮接的传动齿轮,从而带动搅拌柱进行旋转,再由搅拌叶的转动,加快内部液体的流动,达到均匀混合的效果,解决了在添加的过程中,容易导致输入不均匀的问题,有利于装置均匀的混合,从而提高装置工作效率。
基本信息
专利标题 :
一种半导体电镀设备的电镀槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122999490.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-30
授权号 :
CN216712282U
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
徐海文
申请人 :
扬州景泰表面精饰有限公司
申请人地址 :
江苏省扬州市江都区小纪镇工业集中区
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122999490.9
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00 C25D21/00 C25D21/10 B08B9/087
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-06-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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