一种浸泡式去胶剥离机
授权
摘要
本实用新型公开了一种浸泡式去胶剥离机，包括机架，机架上设置有浸泡腔体，浸泡腔体上设置有操作窗口，机架上位于浸泡腔体的外部设置有底座，底座上竖直升降安装有升降座，该升降座由升降动力装置驱动，升降座上设置有安装座，该安装座设置有处于浸泡腔体上方的安装板，安装板上安装有用于悬挂并且调节花篮角度的悬挂调节装置，悬挂调节装置的下端伸入到浸泡腔体内，并悬挂花篮，浸泡腔体上设置有进液管，浸泡腔体内设置有用于加热化学液的加热装置，该去胶剥离机不但能驱动花篮的升降，而且能驱动花篮倾斜，这样使晶圆处于倾斜状态浸没在化学液中，避免晶圆无规律的位置移动，去胶更彻底。
基本信息
专利标题 ：
一种浸泡式去胶剥离机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123057859.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
CN216718904U
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
蒋磊刘毅
申请人 ：
江苏晋誉达半导体股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路2号
代理机构 ：
苏州金项专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
金星
优先权 ：
CN202123057859.0
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-06-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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