一种高空间利用率的双面薄膜蒸镀机
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种高空间利用率的双面薄膜蒸镀机，设置在真空腔室中，包括蒸镀机构和转向机构，其中，蒸镀机构包括蒸镀架，竖直安装在真空腔室的内，在蒸镀架上设置有放卷部和收卷部，在放卷部和收卷部之间设置有多个蒸镀源，转向机构包括多个转向辊，分别安装在所述蒸镀架的两侧，用于对蒸镀的薄膜进行转向，使薄膜依次经过多个蒸镀源进行双面蒸镀，本申请通过蒸镀架和真空腔体配合镀膜，通过调整蒸镀架的位置来调节走膜组件之间的薄膜段的张力，以提高薄膜蒸镀质量。
基本信息
专利标题 ：
一种高空间利用率的双面薄膜蒸镀机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123193311.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
CN216688295U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
臧世伟
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号
代理机构 ：
北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
沈煜华
优先权 ：
CN202123193311.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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