一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备，包括：腔室、以及设置于腔室内的蒸镀机构，蒸镀机构包括竖直地设置于腔室内的蒸镀架，以及设置在蒸镀架的前侧的第一收放卷单元、第一蒸镀单元和第一转向单元，第一蒸镀单元包括从下至上依次设置的第一蒸镀源、第二蒸镀源、第三蒸镀源和第四蒸镀源；第一转向单元包括设置于第一蒸镀单元的左侧的第一转向辊和第三转向辊，以及设置于第一蒸镀单元的右侧的第二转向辊；第一收放卷单元包括在竖直方向上间隔设置的第一放卷辊和第一收卷辊，第二转向辊位于第一放卷辊和第一收卷辊之间；本实用新型实施例通过在蒸镀架上设置蒸镀单元，能够充分的利用腔室的空间，提高腔室空间的利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123287294.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216585177U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
臧世伟
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号
代理机构 ：
北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
沈煜华
优先权 ：
CN202123287294.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
