一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置
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摘要
本实用新型公开了一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，包括：承载架体、喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元；承载架体用以承载固定喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元；喷淋显影单元用以通过在片状基板的表面喷淋预定的显影剂进行显影；退膜单元，用以对片状基板的表面进行退膜清洗，退膜单元包括超声退膜分单元及喷淋退膜分单元，超声退膜分单元用以通过底振超声清洗片状基板的表面薄膜，喷淋退膜分单元用以通过喷淋剥膜剂清洗片状基板的表面的薄膜。本实用新型通过喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元的配合设置，依次对基板表面进行喷淋显影，喷洗退膜及喷淋水洗，从而实现基板表面薄膜的彻底脱膜且显影清晰。
基本信息
专利标题 ：
一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123267174.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
CN216728482U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
范世昌
申请人 ：
昆山阿尔玛电子设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市周市镇宇龙路88号5号房
代理机构 ：
苏州华博知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨敏
优先权 ：
CN202123267174.9
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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