一种微压MEMS压力传感器芯片及制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种微压MEMS压力传感器芯片及制备方法,属于敏感元件与传感器领域。所述芯片包括:SOI硅基体,在所述SOI硅基体的下表面刻蚀背腔形成方形压力隔膜,所述压力隔膜的上表面与下表面设有相同的凸起,上下表面的凸起结构形成所述压力隔膜上的岛结构,并通过所述压力隔膜上表面的单梁结构连接。本发明通过单梁多岛的结构设计,解决了现有微压传感器芯片灵敏度和线性度较差的问题,经过与现有技术的对比,结果证明,本发明的微压传感器可以在较小的芯片面积下,同时得到更高的灵敏度和线性度;且本发明在尺寸设计上更加灵活,更易于集成,有利于缩减制备成本。
基本信息
专利标题 :
一种微压MEMS压力传感器芯片及制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114414110A
申请号 :
CN202210097212.0
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
毕勤刘晓宇
申请人 :
无锡胜脉电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区景贤路6号中国物联网国际创新园H6-601
代理机构 :
哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司
代理人 :
张勇
优先权 :
CN202210097212.0
主分类号 :
G01L1/18
IPC分类号 :
G01L1/18 G01L9/06 B81B3/00 B81C1/00 B81B7/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L1/00
力或应力的一般计量
G01L1/18
利用压电电阻材料的性质,即材料的欧姆电阻随作用于材料上的力的大小或方向的改变而变化的性质
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 1/18
申请日 : 20220127
申请日 : 20220127
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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