一种蒸镀系统
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种蒸镀系统。本发明的蒸镀系统在掩模板远离所述蒸镀源的一侧设置第一支撑件，在基板靠近所述掩模板的一侧且对应于所述第一支撑件的位置处设有第二支撑件，所述第一支撑件远离所述掩模板的一侧的表面抵接于所述第二支撑件远离所述基板的一侧的表面；通过第一支撑件和第二支撑件联合撑开掩模板和基板，增加了掩模板和基板之间的距离，由此可以防止基板被掩模板划伤；增加蒸镀系统蒸镀时的阴影效应的调节范围，满足大阴影场景的使用需求。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540770A
申请号 ：
CN202210123646.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
匡友元欧建兵
申请人 ：
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
唐秀萍
优先权 ：
CN202210123646.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04 C23C14/50 H01L51/00 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220210
申请日 : 20220210
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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