一种可精确控制蚀刻偏差的光罩蚀刻用定位装置
公开
摘要
本发明公开了一种可精确控制蚀刻偏差的光罩蚀刻用定位装置，包括定位底座，以及固定安装于定位底座底面左右两侧的移动导轮；所述定位底座的顶面中部固定连接于导向滑杆的中部；还包括：定位底座的内部上方通过轴承横向转动设置有导向螺纹杆；其中，定位底座的内部下方固定设置有驱动机构，且驱动机构的内部中心位置处通过轴承转动设置有主动齿轮；其中，定位底座内部导向螺纹杆的中部通过锥形齿轮啮合连接于驱动机构内部主动齿轮的顶面中部。该可精确控制蚀刻偏差的光罩蚀刻用定位装置，通过定位底座顶面的夹持机构以及夹持框架带动蚀刻板左右两侧限位的同时并下降，同时通过锁止滑杆对蚀刻板的前后两侧进行限位。
基本信息
专利标题 ：
一种可精确控制蚀刻偏差的光罩蚀刻用定位装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578652A
申请号 ：
CN202210141063.3
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈宏渊
申请人 ：
艾斯尔光电（南通）有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市高新区康富路北侧、希望路东侧
代理机构 ：
北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李祥旗
优先权 ：
CN202210141063.3
主分类号 ：
G03F1/80
IPC分类号 ：
G03F1/80
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/80
蚀刻
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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