一种低损伤去胶装置
实质审查的生效
摘要

本发明的实施例提供了一种低损伤去胶装置,涉及半导体技术领域。该低损伤去胶装置包括装置本体、耦合装置和载气装置;装置本体包括依次连通的等离子体产生室和去胶反应室;耦合装置设置于装置本体上,用以使得进入等离子体产生室内的气体解离形成等离子体;载气装置设置于等离子体产生室和去胶反应室之间,用于向等离子体产生室内通入载气,以稀释产生于等离子体产生室内的等离子体,能够减轻等离子体对器件造成的损伤,提高产品良率。

基本信息
专利标题 :
一种低损伤去胶装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114512392A
申请号 :
CN202210407064.8
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2022-04-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭轲科林政勋
申请人 :
江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市如东县掘港街道金山路1号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
戴尧罡
优先权 :
CN202210407064.8
主分类号 :
H01J37/32
IPC分类号 :
H01J37/32  H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20220419
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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