离子注入机中晶片承载器卡臂水平位置的检测装置
授权
摘要
本实用新型属于测量技术领域,具体公开了离子注入机中晶片承载器卡臂水平位置的检测装置,包括真空制程舱本体和水平仪检测探头,所述真空制程舱本体的正面设置调整板,所述调整板两端对称固定连接有连接板,所述连接板一侧设置有拉块,所述拉块一侧固定连接有拉杆,所述拉杆一端穿过连接板并连接有夹持块,所述夹持块一侧与真空制程舱本体相互贴合,所述拉杆外侧套设有夹紧弹簧,所述夹紧弹簧两端分别连接有连接板和夹持块,所述调整板正面中间的位置开设有贯通的滑槽,所述滑槽上方均匀开设有多个固定螺孔,本实用新型有效的解决了晶片承载器中的传感器所测量的数据与实际晶片的位置状况不一致,不便于安装测量探头的问题。
基本信息
专利标题 :
离子注入机中晶片承载器卡臂水平位置的检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202220095636.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2022-01-14
授权号 :
CN216558885U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
闫占忠张晓宁王志军
申请人 :
北京芯源科技有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区北京经济技术开发区博兴九路2号院4号楼13层1512
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202220095636.9
主分类号 :
G01B21/30
IPC分类号 :
G01B21/30 G01B21/00 H01J37/317 H01J37/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B21/26
••用于检测轮子的准直度
G01B21/30
用于计量表面的粗糙度或不规则性
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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