等离子体沉积保护膜的方法和装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
等离子体沉积保护膜的方法及装置。属于金属表面处理领域。本方法用等离子体活化作用，把化学气相沉积法的良好绕镀性及物理气相沉积法的低温成膜结合起来，可在刀具，模具及机械零部件上镀TiN，TiC，TiN/TiC及Ti(CN)等超硬膜及其复合膜，以提高其使用寿命。等离子体沉积装置具有气流分布均匀，易于清洗和防止污染的功能。本方法的工艺简单，设备费用低，原料价格低，在经济上有明显优势。
基本信息
专利标题 ：
等离子体沉积保护膜的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86106364A
申请号 ：
CN86106364.3
公开（公告）日 ：
1988-03-23
申请日 ：
1986-09-12
授权号 ：
CN1017264B
授权日 ：
1992-07-01
发明人 ：
李世直
申请人 ：
青岛化工学院
申请人地址 ：
山东省青岛市郑州路53号
代理机构 ：
青岛市专利服务中心
代理人 ：
吴澄
优先权 ：
CN86106364.3
主分类号 ：
C23C16/30
IPC分类号 ：
C23C16/30 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
法律状态
1994-10-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-10-06 ：
授权
1992-07-01 ：
审定
1988-10-26 ：
实质审查请求
1988-03-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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