一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器
专利权的终止
摘要

本发明涉及用于激光分子束外延设备的衬底加热器包括炉盘,在炉盘底上开有至少2个固定孔,固定孔中穿入螺钉,该螺钉在漏出底座上的一段上套有垫片或螺母,在其上放上隔热板和垫片或螺母;炉丝板2两端有通孔,和板面上开有螺旋槽,螺旋槽内缠绕炉丝;压片压放在缠绕好炉丝上面,压片两端也有通孔,其通孔的位置与炉丝板上通孔的位置相对应,通过螺母将压片、炉丝板、隔热板固定在炉盘上;在炉盘和隔热板的对称位置上各打2个圆孔,作为炉丝的炉丝引线的孔,炉丝引线与炉丝和加热器的电源电连接。加热器的电源选用低纹波的直流稳压电源,炉丝采用扁螺旋形绕制和选用低纹波的直流稳压电源,消除了炉丝电流产生磁场对RHEED的影响。

基本信息
专利标题 :
一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1949941A
申请号 :
CN200510086585.4
公开(公告)日 :
2007-04-18
申请日 :
2005-10-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吕惠宾何萌陈正豪周岳亮金奎娟杨国桢
申请人 :
中国科学院物理研究所
申请人地址 :
100080北京市海淀区中关村南三街8号
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
高存秀
优先权 :
CN200510086585.4
主分类号 :
H05B3/10
IPC分类号 :
H05B3/10  H05B3/26  
法律状态
2013-12-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101547532396
IPC(主分类) : H05B 3/10
专利号 : ZL2005100865854
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20121011
2009-06-24 :
授权
2007-06-13 :
实质审查的生效
2007-04-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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