本实用新型提供一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，涉及半导体制造技术领域。该清洗槽包括槽壁和槽底，在槽壁的壁体内部设置有连通清洗槽内部与外部的通道，清洗槽上形成有位于槽内部靠近槽底位置处的第一出口和位于槽外部靠近槽底位置处的第二出口，第二出口的水平高度低于第一出口的水平高度，通道包括第一和第二子通道，第一与第二子通道在壁体内部的距槽底上表面预定高度的位置处连通，第一子通道与第一出口连通，并且第二子通道与第二出口连通。通过在槽壁内设置连通第一出口和第二出口的通道，在清洗槽中的溶液高度超出预定高度时，清洗槽内的溶液可以根据虹吸原理，通过通道自动排出到清洗槽外部，实现了清洗槽中废液的自动清理。