一种用于分子束外延生产设备中的托板结构
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型提供一种用于分子束外延生产设备中的托板结构,涉及半导体制造技术领域。该托板结构包括托板主体支架、多个第一子托板和多个第二子托板,第一与第二子托板的外部轮廓完全相同,托板主体支架上形成有紧密排布的多个主台阶型单元孔,每个单元孔的形状尺寸与第一或第二子托板的外部轮廓对应且用于承载第一或第二子托板,第一子托板内设置有用于承载第一尺寸衬底的至少一个第一子台阶型单元孔;第二子托板内设置有用于承载第二尺寸衬底的至少一个第二子台阶型单元孔,第一与第二尺寸不同。通过将子托板与托板主体支架分离,可分别加工用于不同尺寸衬底的子托板,而托板主体支架可以共享使用,从而节省了制备托板的材料,降低了生产成本。

基本信息
专利标题 :
一种用于分子束外延生产设备中的托板结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921428587.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-30
授权号 :
CN210481573U
授权日 :
2020-05-08
发明人 :
冯巍谢小刚
申请人 :
新磊半导体科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
代理机构 :
苏州华博知识产权代理有限公司
代理人 :
郭帅
优先权 :
CN201921428587.0
主分类号 :
C30B25/12
IPC分类号 :
C30B25/12  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/12
衬底夹持器或基座
法律状态
2021-12-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C30B 25/12
变更事项 : 专利权人
变更前 : 新磊半导体科技(苏州)有限公司
变更后 : 新磊半导体科技(苏州)股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215000 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
变更后 : 215000 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
2020-05-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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